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ICP刻蚀设备助力上海ICRD 14nm FinFET SADP工艺研发取得重大突破
报告类型：公司分析
页数：5
文件大小：1.0M
上传时间：2024-12-08
机构：中银证券
作者：杨绍辉 陈祥
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{{Creator}}
{{Body}}
{{$val.TimeAgo({Dtime})}}
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{{BeQuote}}
{{Body}}
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{"InnerBanner":null,"MbPageUrl":"/m/Datums/Report?id=5988972","PageTitle":"ICP刻蚀设备助力上海ICRD 14nm FinFET SADP工艺研发取得重大突破-公司调研 - 研究报告","Redirect":null,"Data":{"Uploader":{"ID":87,"Face":"/_files/face/0/oeso6e2s.jpg","UName":"林嘉慕","UpArts":0,"UpRpts":20071,"UpLbies":21},"Rid":5988972,"IsPdf":true,"IsExist":true,"PdfUrl":"/download2.mtachn.com/upload/report/公司调研/20191204-中银证券-北方华创-002371.SZ-ICP刻蚀设备助力上海ICRD14nmFinFETSADP工艺研发取得重大突破.pdf","RePage":-1},"UserInfo":{"ID":0,"UName":null,"Face":null}}
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